上海微电子参股上市公司,上海微电子上市受益股

　　1：上海微电子装备有限公司是不是上市公司急求~~

　　不是，SMEE以研发为主，并非生产型企业，也就无所谓利润，是为国家做事的，但今天刚发出的消息，100纳米光刻机研制成功，所以以后是不是会上市还不知道，我也只是三月份面试通过，过两天才去报道，你面试了吗

　　2：研究生学历 现在有两个工作单位，上海微电子装备有限公司和西安的北方光电股份有限公司，求大侠指教！！

　　电子行业很辛苦，装备公司我不太清楚。
你看一看是不是上市公司，看毛利率，电子行业都是比较低的。
最好不要去电子行业。
这是我的建议。

　　3：上海电气集团与上海微电子有关系吗

　　从天眼查查询上海微电子装备（集团）股份有限公司的信息，查明上海电气集团拥有上海微电子装备（集团）股份有限公司32.09%的股权，是上海微电子装备（集团）股份有限公司的最大股东。

　　4：上海微电子公司或企业有哪些?

　　上海微电子公司或企业有哪些?
具体的没有办法回答你，太多了。
你可以在百度地图里寻找，分别键入 上海微电子公司、上海微电子企业
就可以了。
例如见图：上海微电子企业百度地图

　　5：为什么光刻机只有荷兰一家可以生产

　　因为世界第二也已经它被远远甩在了后面，现在最先进的EUV（极紫外光）光刻机已经能。 在结合一下自己的封装技术，三星、台积电这些能买到这样先进光刻机的企业。 马上就宣布，自己可以代工7nm的芯片了，赶紧掏钱吧。 但是荷兰其实是小国，那么为什么这么小的一个国家可以拥有这么顶级的技术呢。 其实这样对别的国家也不好，技术垄断嘛，别的国家也不高兴，比如美国。 要了解这一些，还是要先了解一下这家荷兰的公司。 ASML并不是一家白手起家的公司，而是从著名电子制造商飞利浦独立出来的一个公司。。 背后研发实力，还是经费实力一点也不差，可以说是出身名门，背后集中了无数资源和丰富。 但是ASML的光刻机中超过90%的零件都是向外采购的，这与他原来的对手。 正是因为这样的政策，使得他们能够在整个设备的不同部位同时获得世界上最先进的技术。。 而他们自身也可以腾出手来在部件整合和客户需求上做文章，从而在日新月异的芯片制造行。 而这种高新技术行业马太效应特别明显，一旦有一点差距，很快就会迅速拉大。 但即便是零件多数都是向外采购，核心技术人家是有的。

　　6：ASML是唯一能制造极紫外光刻机的厂商，高端芯片制造到底有多难

　　近几年来，中国科技行业遭到国外的严重打压，尤其是电子芯片成为我国半导体领域最突出的短板，生产芯片最重要的设备是光刻机，世界上先进的光刻机主要由荷兰一家名为阿斯麦（ASML）的公司制造，市场占有率超过80%，而其中最先进的极紫外光刻机（EUV光刻），全世界只有ASML一家公司能制造。

　　ASML

　　ASML虽然是一家荷兰的公司，但是出口光刻机受到西方国家的严格控制，ASML的大股东包括美国因特尔、台湾积体电路制造（台积电）、韩国的三星、荷兰皇家飞利浦电子公司等等，其中因特尔占有股份大约为15%，台积电大约5%。

　　ASML的股份结构相当复杂，国际上众多大公司参股，使得ASML形成一个庞大的利益共同体，但是ASML受到《瓦森纳协定》的约束，中国也是被该协定限制的国家之一，一些敏感的设备和技术无法出口到中国。

　　光刻机是当今世界科技领域的集大成者，是人类当前科技的巅峰产物，ASML之所以能制造最先进的光刻机，也是因为特殊的股权结构，使得ASML能汇集当前各项前沿科技，整合各种零部件。

　　一台光刻机重达几十吨，包含十多万个零部件，每台机器从下单到交付要21个月，单价格超过1亿美元，即便这样买家还是排着长队，数据显示，ASML在2017年交付了12台光刻机，2018年18台，2019年26台，预计2020年达到35台。

　　电子芯片

　　第一台电子计算机诞生于1946年，位于美国的宾夕法尼亚大学，当时研究人员使用了18000个电子管，1万多个电阻和电容，6000多个开关，总重量30多吨，启动时功率高达150千瓦，运算能力为每秒5000次。

　　每秒5000次的计算能力，还远远比不上现在几块钱的掌上计算器，人类科技之所以有这么大的进步，就是因为有了芯片的发明，而芯片的发明者是美国人杰克·基尔比，他在2000年因此获得诺贝尔奖。

　　杰克·基尔比1947年毕业于美国伊利诺斯大学，然后就职于德州仪器，担任研发工程师，期间产生了一个天才的想法——把所有的元器件弄到一块材料上，并相互连接成电路。

　　杰克·基尔比很快付诸实践，并开始构思这个电路，然后以硅作为材料，制造出了人类第一个芯片，他把自己的想法告诉公司后，受到了公司的高度重视，次年，杰克·基尔就申请了专利。

　　利用杰克·基尔比发明的芯片，我们就可以把一台几十吨的计算机“装进”一个指甲盖大小的体积内，而且运算速度大幅提高，功耗大幅降低。

　　光刻机原理

　　光刻机的基本原理并不是机密，但其中的零部件不是谁都能制造的，以至于外国人对我们说“即便把光刻机的所有图纸给你们，你们也造不出来光刻机。”

　　制造芯片首先需要用到的材料就是高纯度硅，然后把硅切片得到晶圆，接下来就是高精度的晶圆加工，也是光刻机中的核心技术。

　　我们首先在晶圆上涂一层特殊的材料，该材料在光线的照射下会融化蒸发，于是我们使用绘制好图案的透光模板，经过特殊激光照射后，就能在晶圆表层的材料上刻出图案，然后用蚀刻机刻蚀晶圆，分化学刻蚀和电解刻蚀（比如用等离子体冲刷等等），而没有涂感光材料的部分将保留下来。

　　经过刻蚀后，晶圆表面就留下了很多凹槽，我们向其中选择性地掺入磷等元素，就能形成N型半导体；掺入硼等元素，就能形成P型半导体；掺入铜等元素，就相当于导线；三者按照一定的空间结构结合，就形成了PN结（PN结可以理解为一个开关），大量PN结按照一定方式进行组合，就能完成相应的数学运算。

　　实际当中，一块芯片的结构是三维的，在一层光刻和蚀刻完成后，需要清洗干净，然后再光刻和刻蚀下一层，这样一直叠加十几二十层，形成了立体的芯片，也就是这么一张小小的芯片，里面包含了数十亿、甚至上百亿个晶体管（晶体管包括二极管、三极管等等），比如华为麒麟990的晶体管数达到了103亿。

　　ASML生产的EUV光刻机，每小时能雕刻100多块晶圆，每块晶圆又能分割成许多个块芯片。

　　光刻机的关键技术

　　物镜制造技术

　　光刻机的原理并不难，但是要生产其中的零件并不容易，其中最昂贵且最复杂的零件就是投影物镜，由于芯片光刻的尺寸只有几纳米，所以对投影物镜的误差要求极高，一张直径30厘米的物镜，要求起伏误差不超过0.3纳米，相当于地球这么大的球体，要求表面凹凸不能超过10cm。

　　这样的精度要求，全世界只有德国的蔡司公司能制造，连日本尼康、佳能这样的透镜大厂也做不出来，更不用说中国的公司了。

　　光源技术

　　另外，光刻机中的光源也是一项难以攻克的技术难关，对于深紫外光（DUV）刻，使用的光源波长是193nm，这是光刻机中的一个技术分水岭，芯片发展曾经在193纳米光源停滞了十多年的时间，后来浸没技术缩短波长（原理是在表面镀上一层薄薄的水膜，利用光的折射现象，可以缩短光的波长），加上各项技术的改进，最终193nm光源可以把芯片制程推进到28nm，这也是深紫外光刻的极限。

　　极紫外光刻（EUV）使用波长更短的激光（13.5nm），相对于深紫外光刻，需要重新研发刻蚀材料、光刻胶、刻蚀工艺等等，对精度的要求进一步提高，目前只有荷兰ASML一家公司能制造极紫外光刻机。

　　而且西方国家对我国的技术打压是非常狠的，比如2009年的时候，中国上海微电子研发出90纳米的光刻机，在2010年西方国家就解除了90纳米以上的光刻机对中国出口的限制，2015年又解除了65纳米光刻机对中国出口的限制，让中国的光刻机技术发展完全失去市场。

　　在这样的情况下，中国芯片产业的发展举步维艰，光刻机包含的关键技术太多，一时半会我们是绕不过去的；其实中国并不缺乏人才，只不过人才要用到什么领域，需要政策引导才行，想到中国天眼FAST在2018年的一次网上招聘，年薪10万难觅驻地科研人才，让人感慨不已。